Category: ĐĂNG KÍ

High-purity amorphous boron powder acts as active p-type dopant source in electronic pastes. Its amorphous structure lowers activation energy for boron diffusion to form low-resistance ohmic contact at relatively low annealing temperature. It serves as sintering aid to densify coating and improve substrate adhesion. It forms boride phase after heat treatment for metal diffusion barrier and plasma etching resistance. It tunes coating resistivity and refines grain microstructure to improve thermal stability and reliability of electronic components.

Silicon carbide đen F100 rửa bằng nước là loại cát silicon carbide mịn được sản xuất thông qua quá trình nấu chảy ở nhiệt độ cao, nghiền, rửa bằng axit và kiềm, và tinh chế theo cấp độ. Sản phẩm đáp ứng các yêu cầu cốt lõi của các van điện trở silicon carbide bán dẫn (varistor/điện trở từ hóa), sở hữu năm ưu điểm cốt lõi: độ tinh khiết cao và ít tạp chất, tính chất điện có thể điều chỉnh, độ ổn định nhiệt cao, cấu trúc đặc chắc, khả năng chống chịu thời tiết và độ bền cao.

Bột silicon carbide đen F500 được sản xuất bằng quy trình tinh chế, đạt độ tinh khiết lên đến 98,5%. Độ tinh khiết cao và khả năng chảy tốt khiến nó trở thành chất độn gốm tuyệt vời trong các loại sơn công nghiệp chống ăn mòn gốc nước, giúp tăng cường hiệu suất của sơn về khả năng chống ăn mòn, chống mài mòn và chống chịu thời tiết.